ISO 17109 Surface chemical analysis - Depth profiling - Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films - First Edition
Список продуктов
Данный раздел/документ содержится в продуктах:
Данный раздел/документ содержится в продуктах:
- Техэксперт: Машиностроительный комплекс
- Картотека зарубежных и международных стандартов
Ссылается на
- В списке элементов: 4
- ISO 14606 Surface chemical analysis - Sputter depth profiling - Optimization using layered systems as reference materials - Second editionПоверхностный химический анализ - профилирование глубины Брызг - Оптимизация с помощью выложенных слоями систем в качестве справочных материалов - Второй выпуск
Карточка документа - ISO 18115-1 Surface chemical analysis - Vocabulary - Part 1: General terms and terms used in spectroscopy - Second EditionПоверхностный химический анализ - Словарь - Часть 1: Общие термины и термины, использованные в спектроскопии - Второй Выпуск
Карточка документа - ISO 18115-2 Surface chemical analysis - Vocabulary - Part 2: Terms used in scanning-probe microscopy - Second EditionПоверхностный химический анализ - Словарь - Часть 2: Термины, использованные в тестовой просмотром микроскопии - Второй Выпуск
Карточка документа - ISO TR 15969 Surface Chemical Analysis - Depth Profiling - Measurement of Sputtered Depth - First EditionПоверхностный химический анализ - профилирование глубины - измерение бормотавшей глубины - первый выпуск
Карточка документа
