ОСАЖДЕНИЕ ФОКУСИРОВАННЫМ ИОННЫМ ПУЧКОМ

ОФИП

focused ion-beam deposition; FIB

Химическое осаждение из газовой фазы с применением фокусированного потока ионов для осаждения молекул исходного газообразного материала на заданных участках поверхности подложки.

Примечание - ОФИП применяют, например, для осаждения газообразного карбонила вольфрама [W(CO)]. В вакуумной камере под воздействием ионного пучка газообразный карбонил вольфрама разлагают на летучие и нелетучие компоненты; нелетучий компонент, вольфрам, в результате химической адсорбции оседает на подложку. ОФИП применяют также для осаждения других металлических материалов, например, платины. Осажденный таким способом металлический материал можно использовать в качестве временного слоя для защиты объекта от разрушающего воздействия ионного пучка.