НАНОПЕЧАТНАЯ ЛИТОГРАФИЯ

НПЧ

nano-imprint lithography; NIL

Процесс получения рельефного изображения путем вдавливания шаблона (обычно называемого клише, штамп, маска или трафарет) с заданным рисунком, размеры элементов которого находятся в нанодиапазоне, в слой резиста, покрывающего подложку, и последующего его отверждения при заданной температуре или под воздействием светового излучения.

Примечания

1 Нанопечатную литографию относят к процессам печати, а не к процессам литографии, так как получаемое изображение зависит от формы и рельефа шаблона.

2 Нанопечатную литографию различают по видам материалов, используемых в качестве резиста. Резист из термопластичного полимерного материала сначала нагревают до температуры плавления, а затем надавливают на него шаблоном. Резист из термореактивного материала сначала используют в жидком виде, прикладывая к нему шаблон, а потом нагревают до температуры его отверждения. На негативном фоторезисте изображение формируют с помощью светового излучения и прозрачного шаблона. Процессы нанопечатной литографии с использованием фоторезистов некоторые специалисты называют "оптическим импринтингом", "оптическим наноимпринтингом" или "печатной литографией "шаг-вспышка".