International Organization for Standardization

Surface chemical analysis - Depth profiling - Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS - First Edition
 N 16531

Annotation

This International Standard specifies methods for the alignment of the ion beam to ensure good depth resolution in sputter depth profiling and optimal cleaning of surfaces when using inert gas ions in Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. These methods are of two types: one involves a Faraday cup to measurements of current density and current distributions in ion beams. The methods are applicable for ion guns with beams with a spot size below ~1 mm in diameter. The methods do not include depth resolution optimization.

Автоматический перевод:

Поверхностный химический анализ - профилирование Глубины - Методы для выравнивания ионного пучка и связанного измерения плотности тока или плотности тока для профилирования глубины в AES и XPS - Первый Выпуск

Этот Международный стандарт определяет методы для выравнивания ионного пучка, чтобы гарантировать хорошую резолюцию глубины в профилировании глубины распылителя и оптимальной очистке поверхностей при использовании ионов инертного газа в спектроскопии электрона Оже и сделать рентген фотоэлектронной спектроскопии. Эти методы имеют два типа: каждый включает чашку Фарадея к измерениям плотности тока и текущим распределениям в ионных пучках. Методы применимы для оружия иона с лучами с точечным размером ниже ~1 мм в диаметре. Методы не включают оптимизацию резолюции глубины.