European Committee for Electrotechnical Standardization

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 21: Test method for Poisson's ratio of thin film MEMS materials
 N EN 62047-21

Annotation

This part of IEC 62047 specifies the determination of Poisson's ratio from the test results obtained by the application of uniaxial and biaxial loads to thin-film micro-electromechanical systems (MEMS) materials with lengths and widths less than 10 mm and thicknesses less than 10 m.

Автоматический перевод:

Полупроводниковые устройства - Микроэлектромеханические устройства - Часть 21: Метод тестирования для отношения Пуассона тонкой пленки материалы MEMS

Эта часть IEC 62047 определяет определение отношения Пуассона от результатов испытаний, полученных приложением одноосных и биаксиальных загрузок в тонкую пленку микроэлектромеханические системы (MEMS) материалы с длинами и ширинами меньше чем 10 мм и толщинами меньше чем 10 m.

Эквиваленты данного стандарта:

• DS DS/EN 62047-21 Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 21: Test method for Poisson's ratio of thin film MEMS materials
• BSI BS EN 62047-21 Semiconductor devices — Micro-electromechanical devices Part 21: Test method for Poisson’s ratio of thin film MEMS materials
• IEC 62047-21 Semiconductor devices – Micro-electromechanical devices – Part 21: Test method for Poisson's ratio of thin film MEMS materials - Edition 1.0