ASTM International

Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
 N F1709

Annotation

This specification covers pure titanium sputtering targets used as a raw material in fabricating semiconductor electronic devices.

This standard sets purity grade levels, physical attributes, analytical methods, and packaging.

The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance.

Автоматический перевод:

Стандартная спецификация для высокочистых целей распыления титана для электронных приложений тонкой пленки

Эта спецификация покрывает чистые цели распыления титана, используемые в качестве сырья в производстве полупроводниковых электронных приборов.

Эта чистота стандартных наборов годы обучения, физические признаки, аналитические методы и упаковка.

Обозначение класса является мерой общего металлического содержания примеси. Обозначение класса не обязательно указывает пригодность для определенного применения, потому что факторы кроме всей металлической примеси могут влиять на производительность.