0 продуктов

Авторизация

Фотолитография в экстремальном ультрафиолете

Список продуктов
Данный раздел/документ содержится в продуктах:


ФОТОЛИТОГРАФИЯ В ЭКСТРЕМАЛЬНОМ УЛЬТРАФИОЛЕТЕ

ФЭУ

extreme ultraviolet lithography; EUV

Процесс формирования рельефного изображения в слое фоторезиста путем воспроизведения заданного шаблона с помощью ультрафиолетового излучения в диапазоне длин волн от 10 до 20 нм.

Примечание - В оборудовании для фотолитографии в экстремальном ультрафиолете используют системы специальных зеркал.

"ГОСТ ISO/TS 80004-8-2016 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения" от 09.11.2016 г.


ФОТОЛИТОГРАФИЯ В ЭКСТРЕМАЛЬНОМ УЛЬТРАФИОЛЕТЕ

ФЭУ

Категории продуктов

 

 

 

Знакомьтесь, "Техэксперт"

 Техэксперт для iPad

 Для Android

АКЦИЯ!

Бесплатный доступ