BSI BS ISO 17109 Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondaryion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
Данный раздел/документ содержится в продуктах:
British Standards Institution
Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondaryion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
N BS ISO 17109
Автоматический перевод:
Поверхностный химический анализ — профилирование Глубины — Метод для определения уровня брызг в фотоэлектронной спектроскопии Рентгеновских лучей, спектроскопии Оже-электрона и secondaryion профилировании глубины брызг масс-спектрометрии с помощью единственных и многоуровневых тонких пленок
Эквиваленты данного стандарта:
Уважаемый пользователь!
Обратитесь к обслуживающему Вас представителю за дополнительной информацией о возможности приобретения документов указанного разработчика и заказа перевода.
