ISO 13424 Surface chemical analysis - X-ray photoelectron spectroscopy - Reporting of results of thin-film analysis - First Edition
Данный раздел/документ содержится в продуктах:
- Техэксперт: Машиностроительный комплекс
- Картотека зарубежных и международных стандартов
- ISO 14606 Surface Chemical Analysis - Sputter Depth Profiling - Optimization Using Layered Systems as Reference Materials - First Edition
- 71
- ISO 14606 Surface Chemical Analysis - Sputter Depth Profiling - Optimization Using Layered Systems as Reference Materials - First Edition
- 71.040
- ISO 14606 Surface Chemical Analysis - Sputter Depth Profiling - Optimization Using Layered Systems as Reference Materials - First Edition
- 71.040.40
- ISO 18118 Surface chemical analysis Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy Guide to the use of experimentally determined relative sensitivity factors for the quantitative analysis of homogeneous materials - First Edition
- ISO 18118 Surface chemical analysis Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy Guide to the use of experimentally determined relative sensitivity factors for the quantitative analysis of homogeneous materials - First Edition
- ISO 18118 Surface chemical analysis Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy Guide to the use of experimentally determined relative sensitivity factors for the quantitative analysis of homogeneous materials - First Edition
- Картотека зарубежных и международных стандартов
International Organization for Standardization
Surface chemical analysis - X-ray photoelectron spectroscopy - Reporting of results of thin-film analysis - First Edition
N 13424
Annotation
This International Standard specifies the minimum amount of information required in reports of analyses of thin films on a substrate by XPS. These analyses involve measurement of the chemical composition and thickness of homogeneous thin films, and measurement of the chemical composition as a function of depth of inhomogeneous thin films by angle-resolved XPS, XPS sputter-depth profiling, peak-shape analysis, and variable photon energy XPS.
Автоматический перевод:
Поверхностный химический анализ - делает рентген фотоэлектронной спектроскопии - Создания отчетов результатов анализа тонкой пленки - Первый Выпуск
Этот Международный стандарт определяет минимальное количество информации, запрошенной в отчетах исследований тонких пленок на основании XPS. Эти исследования включают измерение химического состава и толщину гомогенных тонких пленок и измерение химического состава как функция глубины неоднородных тонких пленок решенным углом XPS, профилированием глубины распылителя XPS, анализом пиковой формы и переменной энергией фотона XPS.
